在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面
在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面
在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面
在真空条件下,利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化,在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面