半导体光刻行业深度研究报告：光刻为半导体设备之巅，冰山峰顶待国产曙光

光刻设备均具有高技术附加值,毛利率超过 50%。

光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤：光刻是半导体器件制造的最核心步骤，直接决定集成电路的性能和良率。光刻机的核心工艺指标包括：分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等。主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术。光刻设备均具有高技术附加值,毛利率超过 50%。

成熟工艺领域为主，国内光刻设备市场广阔：中国大陆以成熟制程为主的半导体产线不断扩产，产生了大量光刻设备的需求。2021 年 ASML 有高达27.4 亿欧元的营收来自中国大陆（其全球第三大市场）；全球光刻设备市场规模超 180 亿美元，显影涂胶设备市场超 30 亿美元。国产光刻曝光设备尚处于实验阶段；显影涂胶设备已覆盖浸没式 ArFi 工艺节点，突破动能强劲。

光刻机上游零部件市场有待发掘：光刻机的运行需光源、照明、掩膜台、物镜、工件台等多个精密系统组合工作，全球光刻零件市场至少约 70 亿美元（按 50%毛利率推算）。相比其他半导体零件，光刻机零件单个价值量高，技术难度大。贸易限制导致海外供应链风险剧增，国内光学企业成为不二之选，技术能力与对应产品的盈利能力有望加速成长。